中国的光刻机能达到多少nm
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美国靠边站!7nm DUV光刻机能卖中国厂商 ASML回应荷兰说了算而不是向美国政府申请光刻机TWINSCAN NXT:1970i和1980i的出口许可证。预计新规不会对我们2024年的财务前景产生任何影响,也不会对2022年11月投资者日期间所传达的长期前景产生任何影响。”至于TWINSCAN NXT:2000i及其后的浸没式DUV系统,ASML已经有了荷兰出口许可还有呢?
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国产套刻8nm光刻机引争议,我们追赶对象真的是ASML吗?文| 孙永杰日前,工信部印发的《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》以下简称“目录”)中显示,中国已攻克氟化氩光刻机,其中该目录中,公开可见的与光刻机代际水平和性能等密切相关的光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻≤8nm指标引发了业内的关注。几等会说。
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给图纸也造不出EUV光刻机?150吨,45万套零件,250人要装半年众所周知,EUV光刻机是制造7nm以下芯片,必须用到的半导体设备,且全球仅ASML一家能够生产,还不能卖给中国。所以中国的芯片制造工艺要进入7nm以下,千难万难,除非中国能够自己制造出EUV光刻机出来,或者换一条路,不采用光刻工艺…于是很多人就奇怪了,中国的模仿能力不是一后面会介绍。
广立微:良率解决方案获海内外多家知名厂商认可,多家集成电路龙头...金融界12月5日消息,有投资者在互动平台向广立微提问:台积电前研发处长评价中国光刻机:去做8nm技术是绝对可能的,但是良品率有多少还是个疑问。请问董秘,广立微的良率提升解决方案对更加先进的芯片制程良率提升方面具有多大效果,业界认可程度如何?公司回答表示:集成电路制造后面会介绍。
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